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日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置
更新日期:2024-05-15
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廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址:
簡要描述:
日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備,只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。
日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置
它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備,只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。
【特征】
掃描階段可以處理比以前更大的區(qū)域。
配備臭氧分解裝置,無需排氣設(shè)備。
日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置
研發(fā)用掃描型準分子輻照裝置 | |
模型 | ASM86準分子 |
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發(fā)射波長 | 172nm |
待處理對象 | W86mm x D120mm 以下,厚度 40mm 以下 |
照射距離調(diào)整 | 帶有用于調(diào)節(jié)的實驗室千斤頂(可變照射距離從 0 到 40 mm) |
外形尺寸 | 機身:(W) 432 mm x (D) 510 mm x (H) 520.5 mm(不包括突出部分) |
大約重量 | 約 25 kg(主體 20 kg,照射單元 4.8 kg) |
機身材質(zhì) | SUS304 / A5052P / SPCC |
輻照單元 | |
燈具制造商 | 濱松光電株式會社制造 |
模型 | 平面準分子 EX-86U L13129 |
輻照強度 | 65mW/cm2 |
照射面尺寸 | 推薦 86mm x 40mm 準分子有效照射距離 5mm 以內(nèi) |
冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 |
運輸科 | |
表材 | A5052P(帶對齊狹縫) |
遮光罩 | PVC(UV cut黃色) |
處理速度 | 0.1mm/秒-120mm/秒 |
加工活動范圍 | 240mm |
其他 | |
觸控面板 | 4英寸單色觸摸屏 |
食譜數(shù)量 | 20個配方(加工速度和照射時間可設(shè)置) |
監(jiān)控功能 | 具有當前速度/當前位置/剩余時間顯示功能 |
臭氧排氣設(shè)備 | 內(nèi)置臭氧催化劑(強制風(fēng)扇排氣) |
公用事業(yè) | AC100V 50 / 60Hz 400VA |